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铁电液晶光寻址空间光调制器性能分析

资 源 简 介

针对氢化非晶硅/铝/铁电液晶结构的光寻址空间光调制器(OASLM),依据其等效电路模型,利用Pspice和Matlab软件对其分辨率、响应速度、对比度及灰度响应等性能进行了分析。结果表明:在铁电液晶(FLC)层厚度一定的情况下,减小光敏感层(a-Si:H层)的厚度可以提高FLC-OASLM的调制传递函数,从而提高分辨率;在其他参量一定的情况下,FLC-OASLM的响应速度随写入光光强增大而增大(写入光从0.08mW/cm2增大到10mW/cm2,延迟时间减小110μs,上升时间减小154μs),随擦除光光强增大而减小(擦除光从0增大到1mW/cm2,延迟时间增大41μs,上升时间仅增加3μs);FLC-OASLM的对比度随控制光光强增大而增大,最终趋于一个稳定值21∶1;在其他参量不变时,随着擦除光光强的增大,输出光响应呈现"等级"下降,且发现当擦除光光强达到一定值(3mW/cm2)后,擦除光的改变主要影响下降时间而对上升时间几乎无影响;合理设计激励源信号波形,可以得到超过十级灰度输出,表明擦除光具有实现FLC-OASLM的灰度响应的功能。

According to the equivalent circuit model of an optical addressed spatial modulator whose main structure is a-Si:H/Al/FLC, the resolution, response velocity, contrast ratio and gray scale response characteristics were analyzed by Pspice and Matlab. The results indicate that in the condition of certain FLC cell thickness, the resolution of FLC-OASLM can be increased by decreasing the thickness of a-Si. H, but it makes the dynamic range decrease and manufacture more dif...

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