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薄膜电路通孔结构光刻胶喷涂工艺

  • 资源大小:822
  • 上传时间: 2021-07-25
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  • 标      签: 薄膜 电路 结构 喷涂 工艺

资 源 简 介

采用经稀释的光刻胶在喷胶机上对打孔的基片进行了雾化喷涂试验,在通孔结构表面实现了光刻胶的均匀涂覆。在同一基片上选取了十个通孔,采用扫面电镜对基片表面、通孔边缘及通孔侧壁中部和底部四处的光刻胶厚度进行了测量,得到的平均膜厚分别为10.2、8.8、6.1和5.3μm,各处厚度均匀性均小于±10%。

The diluted photoresist was applied in spray coating process on drilled substrate using a spray coating equipm ent. The conform al coating of photoresist layer on through via structure was achieved. Ten through via on the sam e substrate were selected. For each through via,the photoresist layer thickness of substrate surface,through via edge,sidewall center and sidewall bottom were m easured respectively by H ITACHI Scanning E lectron Microscope. The average value of film thickness were 10.2,8.8,6.1 and 5.3μm ,and allthickness uniform ity was less than ±10% .

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